Le Japonais Tokyo Electron Limited (TEL) et le Néerlandais ASML viennent d'annoncer un projet de coopération dans le domaine des outils de lithographie avancés pour les futures technologies 45nm et au-delà destinées à la production des semiconducteurs. TEL fournira son système de dépôt et de développement de résines photosensibles Clean Track Lithius à ASML qui l'utilisera en coopération avec son photorépéteur Twinscan XT:1900i pour les travaux de R&D qui devraient démarrer début 2007. Les deux sociétés échangent depuis 2004 des équipements et partagent leurs résultats de recherche afin d'améliorer la productivité de machines utilisées dans des clusters. L'objectif consiste à atteindre un rendement d'au moins 180 tranches de silicium à l'heure.