Toppan Printing et IBM viennent d'annoncer une extension de leur accord de coopération portant sur le développement des masques photolithographiques jusqu'au process 32 nm. Les deux firmes ont initialement démarré des travaux communs sur les photomasques 45 nm en 2005, un projet qui doit maintenant continuer jusqu'en juin 2008 avec l'évaluation de nouveaux matériaux pour le noeud technologique 32 nm. Au vu des résultats, ils décideront ensuite s'ils prolongeront leurs travaux pour le développement du process complet de fabrication de photomasques.