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Nanoident vient d’inaugurer la première usine de production de semiconducteurs « par impression »
Elisabeth Feder
[ CAPTEURS ]
Nanoident vient d'inaugurer la première usine de production de semiconducteurs « par impression »
L'Autrichien Nanoident vient de lever le voile sur la première usine de production de capteurs optoélectroniques réalisés par des techniques...
Elisabeth Feder
, Electronique International,
le 15/03/2007 à 14h22
L'Autrichien Nanoident vient de lever le voile sur la première usine de production de capteurs optoélectroniques réalisés par des techniques d'impression (jet d'encre et sérigraphie) dans le monde (voir EI N°631).
Aboutissement d'un investissement de 12 millions d'euros, soit seulement une fraction infime des capitaux nécessaires à la production de semiconducteurs classiques sur silicium, le site aurait théoriquement une capacité de production
de 40000 m2. Les capteurs sont réalisés par l'impression de différentes couches fonctionnelles (encres conductrices, polymères isolants, etc.) - il est question de structures de 20 µm de dimensions pour 100 nm d'épaisseur - lors de phases
successives sur des substrats aussi divers que du plastique, du verre, de la céramique, voire du papier. Le capteur jetable est ainsi né. Nanoident a mis au point une plate-forme technologique qui servira de base à une grande variété de composants
semiconducteurs imprimés, développés avec les partenaires utilisateurs. La société vise essentiellement les marchés des sciences de la vie, du médical et de la sécurité, avec, par exemple, des capteurs optoélectroniques, des capteurs chimiques et
biologiques et des capteurs biométriques.
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