Mentor Graphics rejoint le programme Nano 2012

Grenoble et Crolles (Isère) - A l'occasion d'une conférence dédiée à la nanoélectronique intitulée MNTS (Micro, nano, TIC et société, de 2012 à 2020), qui s'est tenue les 15 et 16 mars derniers au centre Minatec de Grenoble, le président et numéro deux de Mentor Graphics, Gregory Hincley, a annoncé que sa société venait de rejoindre le programme Nano 2012, initiative technologique majeure dont l'objectif est de constituer, à Crolles et à Grenoble, l'un des pôles de R&D les plus avancés au monde pour le développement de nouvelles générations de semiconducteurs en technologies 32 et 22 nm.

Mentor Graphics, géant mondial de la conception logicielle et matérielle, vient ainsi compléter les expertises des acteurs déjà présents dans ce programme : STMicroelectronics, le CEA-Leti, IBM, ASML, ST-Ericsson, l'Inria, le CNRS et différents acteurs français et européens dans le cadre de projets coopératifs de R&D menés au sein d'Eureka (Medea+, Catrene) ou dans le cadre de l'initiative technologique commune (JTI) Eniac.

Mentor Graphics est déjà présent en France avec 220 employés répartis sur deux sites à Meudon (Hauts-de-Seine) et Montbonnot (Isère). Dans le cadre du programme Nano 2012, la société américaine "va mobiliser 29 personnes dont 21 seront de nouvelles embauches, impliquées dans le domaine de l'automatisation des process et des flots de conception", a précisé Gregory Hincley.

Elle va notamment collaborer avec STMicroelectronics au sein d'un projet d'une durée de trois ans, baptisé DeCADE, dont le but est de développer des solutions de conception avancées pour les systèmes sur puce (SoC) optimisés en technologie 32 nm et au-delà.

Rappelons que le programme Nano 2012 prévoit un investissement de 1,25 milliard de dollars sur 5 ans destiné à des équipements pour la R&D et à l'augmentation des capacités de production, ainsi que des dépenses de R&D d'un montant de 2,3 milliards d'euros sur 5 ans et la création de 660 emplois supplémentaires sur les sites de Crolles et de Grenoble. Il est soutenu à hauteur de 457 millions d'euros par l'Etat et les collectivités locales dont 340 millions d'euros devraient revenir à STMicroelectronics. Il permet d'ores et déjà de produire 2800 tranches de 300 mm de diamètre par semaine, essentiellement en technologie 90 et 65 nm. A l'horizon 2012, il est prévu de produire 4500 tranches de 300 mm de diamètre en technologie 22 nm.