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ASML et Zeiss déplorent que Nikon n’ait pas souhaité renégocier des accords de licences croisées.

Publié dans Vie des entreprises

Nikon accuse ces deux sociétés d’avoir violé des brevets protégeant la propriété intellectuelle de ses équipements de lithographie en immersion.

Publié dans Vie des entreprises

Le système mis au point par Applied Materials permettra d’étendre l’utilisation de la photolithographie 193 nm à immersion aux noeuds technologiques 10 et 7 nm.

Publié dans Production

Pour les nœuds inférieurs à 20nm, cette technologie est une alternative à la lithographie par immersion avec multiple patterning qui domine le marché, à la lithographie aux UV extrêmes ainsi qu’à l’écriture directe par faisceaux d’électrons.

Publié dans Vie des entreprises
14 novembre 2019
13 novembre 2019
12 novembre 2019
10 novembre 2019
8 novembre 2019

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