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Revue ElectroniqueS > ElectroniqueS n°99 - ACTUALITÉ - ÉQUIPEMENTS DE PRODUCTION DE SEMI-CONDUCTEURS

Des équipements EUV traitant 170 wafers par heure en 2019

Rédigé par  mardi, 11 décembre 2018 00:00
Cette nouvelle génération de matériels de lithographie d'ASML supplantera les modèles actuels à 125 wafers par heure, et servira la production en technologie 7 nm. Pour les nœuds ultérieurs, le fabricant met au point des machines EUV à ouverture numérique 0,55.

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