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Ces photo-résines sont destinées à être utilisées avec la lithographie EUV qui permet la fabrication des plus fines géométries de semi-conducteurs. Cette opération va permettre à la Corée du Sud de réduire sa dépendance au Japon pour ces matériaux.

Publié dans Vie des entreprises

L’Imec, Inpria et TEL présentent à SPIE Advanced Lithography Conference, la faisabilité en production de ce procédé. Il a été testé sur la ligne de production de circuits intégrés 7 nm de l’Imec, ligne utilisant un équipement de lithographie EUV ASML de dernière génération.

Publié dans Production
5 juin 2020
4 juin 2020
3 juin 2020
2 juin 2020
29 mai 2020

Composants
Diodes Laser Continues Nos diodes laser CW offrent modularité sur une large plage spectrale. Disponibles de 405 nm à 1610 [...]
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03/09/2020 - 04/09/2020
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