Tout sur les masques et la lithographie du 18 au 20 janvier 2010 à Grenoble

Le 14/01/2010 à 14:46 par Didier Girault

EMLC2010 est une conférence européenne annuelle dont l’édition 2009 s’est tenue à Dresde. Des experts y font le point sur les avancées techniques en lithographie et masques.

La 26e conférence européenne sur les masques et la lithographie, EMLC2010, ouvrira ses portes du 18 au 20 janvier prochain dans le centre des congrès de Minatec, à Grenoble.
Organisée tous les ans par l’association professionnelle allemande VDE/GMM, cette manifestation a pour partenaires le CEA – Leti, UBC Microelectronics et la ville de Grenoble. Elle est soutenue notamment par ASML, GlobalFoundries, Minatec, Sematech, Semi, le SPIE, ST Microelectronics et Toppan Photomask.
Renseignements : www.EMLC2010

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