Applied Materials propose un implanteur ionique pour architectures 3D

Le 03/07/2014 à 10:42 par Didier Girault
TSMC

Cet équipement inclut un sous-ensemble d’adaptation du dosage ionique.

Applied Materials, spécialiste des équipements de production, annonce le système Applied Varian VIISta 9003D, un implanteur ionique destiné notamment à la fabrication de structures FinFET et Nand 3D en technologies inférieures à 20nm.

Ce matériel est caractérisé par la suppression des impuretés du faisceau ainsi que par un contrôle précis de l’uniformité de la répartition des ions et du dosage de la densité d’ions du faisceau. Ce qui améliore la répétabilité.

Les technologies de focalisation du faisceau diminuent aussi les défauts, selon Applied Materials. Toutes ces caractéristiques font de cet implanteur un excellent candidat à la fabrication d’architectures complexes.

L’innovation clé de ce système est une technologie dite SuperScan 3 qui en utilisant le contrôle de la forme du faisceau permet d’affiner la dose d’ions en fonction des motifs désirés.
 

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